Flytande cyklohexan CAS 110-82-7 som fotoresistlösningsmedel

Produktbeskrivning

Vad är cyklohexan?

Cyklohexan är ett färglöst, flyktigt organiskt lösningsmedel med låg ytspänning och hög löslighet. Dess CAS-nummer är 110-82-7, EINECS-nummer är 203-806-2, kemisk formel är C₆H₁₂, molekylvikten är 84,16. Densiteten är 0,77, smältpunkten är 6,5 grader, kokpunkten är 81 grader. Flampunkten är -18 grader, nästan olöslig i vatten, ångtrycket vid 37,7 grader är 168,8 mmHg, ångdensiteten i förhållande till luft är 2,9.

Grundläggande info

Används

Cyklohexan har följande fördelar som fotoresistlösningsmedel:

• God löslighet: Den har god löslighet för olika komponenter såsom hartser och fotosensibilisatorer i fotoresist, och kan göra dessa komponenter jämnt dispergerade i lösningen för att bilda ett stabilt och enhetligt fotoresistsystem, vilket bidrar till den efterföljande bildningen av en likformig resistfilm på substratet.
• Låg kokpunkt och flyktighet: Dess kokpunkt är cirka 81 grader, vilket är relativt lågt. Efter att fotoresisten har belagts kan den avdunsta snabbt, så att resistfilmen kan torkas snabbt, vilket förkortar bearbetningstiden och förbättrar produktionseffektiviteten. Dessutom, under fotolitografiprocessen, kommer noggrannheten i den fotokemiska reaktionen och mönsteröverföringen inte att påverkas av lösningsmedelsrester.
• Hög kemisk stabilitet: Den har hög kemisk stabilitet, är inte lätt att reagera kemiskt med komponenterna i fotoresisten och är inte lätt att sönderdela eller försämras under förhållanden med ljus, framkallning etc. under fotolitografiprocessen. Det kan säkerställa stabiliteten hos fotoresistens prestanda och säkerställa kvaliteten och noggrannheten hos fotolitografimönstret.
• Låg ytspänning: Cyklohexan har en låg ytspänning, vilket gör att fotoresistlösningen kan spridas bättre på substratytan under beläggning, vilket bildar en enhetlig och platt resistfilm, vilket är fördelaktigt för att förbättra upplösningen av fotolitografi och minska mönsterdefekter orsakade av ojämn filmtjocklek eller ojämn yta.
• Kostnads-effektivitet: Det är ett relativt vanligt och billigt organiskt lösningsmedel med ett brett utbud av källor. När man masstillverkar-fotoresist kan användning av cyklohexan som lösningsmedel minska produktionskostnaderna och har god ekonomisk funktionalitet.

Säkerhetsinformation

Håll borta från antändningskällor.
Undvik kontakt med ögonen.
Vidta försiktighetsåtgärder för att förhindra generering av statisk elektricitet.
Kassera detta material och dess behållare som farligt avfall.
Undvik utsläpp till miljön. Se särskilda instruktioner/säkerhetsdatablad.
Vid förtäring, framkalla inte kräkning; sök omedelbart läkare och visa behållare eller etikett.
Förvara behållaren på en väl-ventilerad plats.

Företagsprofil

Gneebioär ett företag som specialiserat sig på forskning, utveckling, produktion och försäljning av fytokemikalier och finkemikalier. Vår fabrik grundades 2016 och ligger i Henan-provinsen och täcker en yta på 3 600 kvadratmeter. Vi har ett professionellt, väl-utrustat och hög-Fo-team med mer än 10 års FoU-erfarenhet. Vårreagensprodukter exporteras i stor utsträckning till många länder, inklusive USA, Ryssland, Kanada, Australien, Europa, etc., och vi tillhandahåller snabba leveranstjänster till våra kunder. Vi hoppas kunna etablera ett långsiktigt- och ömsesidigt fördelaktigt samarbete med fler vänner i framtiden och tillhandahålla de bästa produkterna och tjänsterna till våra kunder.

Våra populära produkter inkluderar organiska kemikalier:CAS: 3327-22-8 CTA, CAS 27126-76-7 Fenyliodosohydroxitosylat, katalysator:CAS 110-02-1 Tiofenbland annat.

Kontakta oss

FAQ